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好消息!中国半导体传来“捷报”,国产光刻机取得重大突破!

作者:admin 发布时间:2020-06-12 12:30点击:

关键时刻,中芯国际和上海微电子备受关注,成为国内芯片制造崛起的希望 半导体产业链涉及芯片设计,芯片制造,芯片封装等环节;在芯片设计环节,中国有华为家海思半导体,设计能力不低于高通美国 在芯片封装环节,有长电技术,华天技术,通福微电,完全满足了国内对半导体封装的需求 但最大的问题是芯片制造过程,全球最大的芯片制造商台积电(TSMC)占全球市场的56%,三星电子(SamsungElectronics 因此,我们只能把希望寄托在中国最先进的芯片厂中芯国际上,但只能实现14nm的芯片生产,与台积电芯片制造实力相比还有很大差距 中国半导体新闻,中芯国际在人才和资本方面取得新进展 据媒体报道,原中国区负责人已加入中芯国际,白农直接向联合CEO梁梦松汇报 白农曾就职于三星,高通等半导体企业,拥有20多年的行业经验 事实上,中芯国际的顶级人才是首席执行官梁梦松,他在台积电和三星工作后于2017年加入中芯国际。

因此,梁梦松是全球半导体行业少有的顶尖人才 加入中芯国际后,中芯国际的14nm芯片发展迅速 中芯国际在2018年从ASML订购了一台EUV光刻机,但由于各种原因,货物的延迟到达,这也导致中芯国际无法突破7nm的技术 目前,在梁梦松的领导下,中芯国际有一个“备选” 梁振英在nm投资者会议上说,好消息是,中芯国际目前的N1技术不需要使用荷兰EUV光刻机 但从长远来看,我们必须有自己的自制光刻机 目前,中国唯一的光刻机制造商是上海微电子,上海微电子也是世界上为数不多的制造光刻机的制造商之一 上海微电子成立于2002年,主营业务是光刻设备,主要生产SSX600和SSX500两个系列的光刻机 一般来说,光刻机主要分为IC前道光刻机,封装光刻机,面板光刻机和LED光刻机 我们通常所说的光刻机是前置光刻机,这也是最难制造的 现在上海微电子可以制造90nm工艺光刻机,而荷兰ASMLEUV光刻机可以达到5nm,差距仍然很大 好消息是国产光刻机取得了重大突破上海微电子设备(集团)有限公司披露,将于2021年至2022年交付国内首台28nm工艺的沉浸式光刻机,是国内光刻机的重大突破。

从90nm到28nm上海微电子已经花费了几十年,这是不容易的 虽然荷兰ASML的28nm过程和5nm过程之间仍有间隙,但我们试图缩小间隙 目前,中国拥有世界上最大的半导体市场,国家集成电路基金也在大力支持国内半导体企业。

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